常用作薄膜涂層。具有高的硬度和良好的耐磨性，是一種很受重視的耐磨涂層。用空心陰極離子鍍制備的氮化鉻膜具有Cr+Cr2N兩相組織，晶粒度為20～70nm，硬度為HV22GPa。經真空退火后，能提高到HV35.4GPa。其耐磨性優于CrC膜。反應濺射法氮化鉻膜能得到Cr+Cr2N或單相CrN兩種組織，其硬度均在HV20～25GPa(塊體CrN硬度HV11GPa)。用作耐磨涂層。